Перспективные методы индивидуальной химической обработки и сушки полупроводниковых пластин

В данной статье рассматриваются способы проведения индивидуальной жидкостной химической обработки и сушки пластин. Выявлены наиболее перспективные методы обработки. Рассмотрены основные химические реагенты, которые будут применяться для удаления загрязнений с поверхности. Представлены конструктивные особенности реализации оборудования для индивидуальной обработки и сушки, а также их принцип работы. Разработка подобного оборудования в России является актуальной задачей, решение которой позволит перейти на новые проектные нормы.

индивидуальная обработка, жидкостная обработка, химические реагенты, спрей, подготовка сред, сушка, эффект Марангони.