Перспективные методы индивидуальной химической обработки и сушки полупроводниковых пластин

Дата публикации: 16.06.2021

Перспективные методы индивидуальной химической обработки и сушки полупроводниковых пластин

Сотникова А.М. Ворфоломеева М.В.
Ткачев А.В.
Аннотация: В данной статье рассматриваются способы проведения индивидуальной жидкостной химической обработки и сушки пластин. Выявлены наиболее перспективные методы обработки. Рассмотрены основные химические реагенты, которые будут применяться для удаления загрязнений с поверхности. Представлены конструктивные особенности реализации оборудования для индивидуальной обработки и сушки, а также их принцип работы. Разработка подобного оборудования в России является актуальной задачей, решение которой позволит перейти на новые проектные нормы.
Ключевые слова: индивидуальная обработка, жидкостная обработка, химические реагенты, спрей, подготовка сред, сушка, эффект Марангони.
Полный текст статьи